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JCMsuite應用:電磁場與獨立的接觸孔的相互作用
時間:2023-06-14 17:55來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
本案例為獨立接觸孔的模擬,如下所示:
 
 
在布局中文件layout.jcm中定義的幾何設置,給定的平行四邊形定義了掩模上邊長為280nm的孔洞大小。由于這種模式建模時定義為孤立的,它在橫向上被吸收掩模材料包圍。在JCMsuite中,通過定義一個圍繞幾何單元的ConvexHull,可以方便地建立這個結構。這將自動建立一個ConvexHull與封閉模式的最小距離偏移。對于ConvexHull其域名、優先級和邊界條件可以像往常一樣定義。
由于掩模模式是孤立的,因此任意數量的相同頻率、不同入射方向的入射平面波都可以定義為光源。
 
光瞳面的西格瑪坐標用來定義不同的入射方向。在底部顯示了傳輸磁場的一些圖。后處理傅里葉變換的定義類似于周期設置。然而,在孤立的情況下,計算了一個離散表示的連續傅里葉變換的掩模遠場分布。連續傅里葉變換因此在k空間的笛卡爾網格上采樣。得到的仿真結果如下所示:
 
  
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