|
光學膜厚測量系統FilmOpt是基于反射膜厚技術的用于檢測薄膜厚度的設備；通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射譜，快速準確測量薄膜厚度、光學常數等信息。
此外，我們提供基于該設備的膜厚和n&k測量服務。無論是單層膜還是多層膜，我們均可應對多種材料類型的測量需求。如有相關測量需求，歡迎通過郵件聯系訊技光電技術支持團隊：support@infotek.com.cn。
產品特點
■ 測量范圍廣；
■ 非接觸、非破壞測量；
■ 核心算法支持薄膜到厚膜、單層到多層薄膜分析；
■ 節省空間、配置靈活、支持定制化
主要規格
*取決于材料
系統特色
超寬量程·納米級精度
• 1nm~260μm 全覆蓋，薄膜至厚膜一機搞定
• ＜0.02nm重復精度，滿足半導體/光電領域嚴苛要求
硬核技術雙驅動
• 高信噪比光譜儀：抗干擾強，數據更真
• 智能算法（FFT+AI擬合）：復雜膜層 3秒解析，結果穩定可靠
極簡高效 · 靈活部署
• 一鍵測量，3秒出結果：零學習成本，適配產線高頻檢測
• 小型模塊化設計：體積減 40% 支持擴展，省空間易升級，FilmOpt Standard尺寸僅226mm*256mm*76mm
經典案例
不同膜類展示
測試項目承接：膜厚及nk測試需求
本服務基于高級版光學膜厚測量系統，聚焦光學薄膜、涂層等高精度厚度檢測，為光電子、顯示、光學器件等領域提供符合行業標準的專業測試解決方案，適配研發驗證、生產質控、產品合規等全場景需求。
服務核心特點
測量原理先進：采用光譜反射等光學檢測技術，無接觸、無損傷，避免對膜層及基材造成破壞。
精度與分辨率高：可實現納米級精準測量，支持單層、多層光學膜的厚度及n&k值檢測，數據準確度高。
適配場景精準：針對光學膜（如增透膜、偏光膜、濾光膜）、金屬涂層等，兼容玻璃、硅材料等光學基板。
測量精度對比
研發意義
近年來隨著光學行業的發展，光學薄膜測試的需求持續增長。在半導體、光伏、顯示面板、精密涂層等核心產業快速升級的背景下，膜厚測量作為生產質控、研發創新的關鍵環節，面臨著“高精度與低成本難以兼顧” “測量效率與膜層兼容性矛盾”“無損檢測需求迫切” 三大核心痛點。傳統測量設備或存在精度不足（誤差超 ±5%）、或依賴破壞性檢測（如切片法）、或對膜層材質（如透明 / 非透明、單層 / 多層）、表面狀態（如粗糙 / 光滑）要求苛刻，且高端設備價格昂貴，中小制造企業難以負擔。
為此，訊技光電提出的 “光學膜厚測量系統” 的研發核心意義在于：以 “高性價比” 打破高端設備壟斷，以 “精準無損” 解決行業檢測痛點，以 “高效兼容” 適配多元應用場景。設備采用先進光學干涉原理，實現 1nm或0.2% 的測量精度，滿足納米級膜厚檢測需求；全程非接觸式測量，避免對膜層造成損傷；測量速度大幅提升（單點位測量1秒左右），根據定制需求可進行樣本連續檢測，大幅提升生產效率；同時兼容金屬膜、介質膜等多種材質，對膜層要求低，無需復雜預處理，真正實現 “即放即測”。通過技術創新，讓各類規模企業都能以小成本獲得高端檢測能力，助力產業提質增效、降低生產成本。
|
