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VirtualLab Fusion應用:隨機分布公差分析
時間:2024-08-15 20:47來源:訊技光電作者: 技術部點擊:次打印
摘要 
 
 
對于具有許多參數(shù)的系統(tǒng),可以通過在給定邊界內隨機改變參數(shù)來研究公差。VirtualLab Fusion提供了各種隨機分布來幫助光學工程師完成這項任務。在參數(shù)運行文檔中,用戶可以指定參數(shù)為均勻、正態(tài)或非對稱正態(tài)分布。
 
在哪里可以找到組件?
 
                                                     
 
Property Browser可以在主窗口的右側找到。它與VirtualLab Explorer、Assistant和Distributed Computing共享同一個面板。
顯示的選項和屬性取決于活動*文檔的類型(例如,數(shù)據(jù)陣列、光學設置等)。
 
*活動文檔是用戶點擊的最后一個文檔。                                           
 
分布預覽                                  
                                                                           


 
 
均勻分布
                                                                             
對于Uniform Distribution,參數(shù)范圍內的所有值被隨機函數(shù)選中的概率相同。
 
基于標準差的正態(tài)分布
 
                                                                       
 
正態(tài)分布-參數(shù)范圍
 
                                                      
 
正態(tài)分布–截止分布
 
 
基于過程能力的正態(tài)分布 
 
                                                           
 
正態(tài)分布-區(qū)間中的相對位置
 
                                                                   
 
正態(tài)分布-過程能力指數(shù)
 
                                                             
 
結果分析
                                                                    
例如找到傾斜角在-2°/2°特定光柵的最小效率:
 
                                                                   
 
文件信息 
 
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