案例563(1.0)
1.建模任務
這個案例將演示設計與分析一個折射率調制的擴散器圖層以生成Top Hat圖案。
設計包括兩個步驟:
- 設計相位函數來生成一個角譜Top Hat分布。
- 基于相位調制來計算對應的折射率調制。
如果想要更詳細的解釋設計和分析步驟,請參見教程Tut565。
照明光束參數
波長:632.8nm
激光光束直徑(1/e2):700um
理想輸出場參數
直徑:1°
分辨率:≤0.03°
效率:>70%
雜散光:<20%
2. 設計相位函數
相位的設計請參考會話編輯器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和優化文檔Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp
設計沒有離散相位級的phase-only傳輸。
3.計算折射率調制
最大折射率調制
△n=+0.05
如果是GRIN層,那么厚度:12.656um
折射率調制假設與相位調制成正比(薄元近似)。
為得到細節請參見教程Tut565。
優化系統文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。
4.模擬結果
角強度分布
(參見Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
5.結論
VirtualLab Fusion支持設計GRIN衍射光學元件和全息圖。
優化的GRIN元件可以生成任意二維強度分布。
可以模擬通過x/y平面上任意調制的介質中的光傳播。
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