本案例計算從傳輸中得到的衍射光學元件的高度分布和結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
關鍵詞：衍射光學，衍射光學元件，結構數(shù)據(jù)，GDSII，ASCII，位圖
所需工具箱：Diffractive Optics Toolbox Basic；Tutorial在試用版本中不可用。聯(lián)系LightTrans或者當?shù)亟?jīng)銷商可申請一段全版本的試用。
相關Tutorials：DO.1; DO.2; DO.3; DO.4; DO.5; DO.7; LBS.1; LBS.2
建模任務
照射光束強度 衍射擴散器 產(chǎn)生的光圖樣強度
建模任務
² 擴散器參數(shù)：
—相位層：4
—像素尺寸：830*830nm
—口徑：1*1mm
—周期：664,83*664,83um
² 結構數(shù)據(jù)輸出為二進制格式
² 需要的高度分布計算
² 蝕刻掩模分解
² 蝕刻掩模輸出為位圖和GDSII文件
打開光學擴散器系統(tǒng)
² 上載文件
DO.008_Generation_of_DOE_Fabrication_Data_01.lpd.
² 文件在VL_Samples文件夾中
光學擴散器系統(tǒng)
² 點擊Go!按鈕開始模擬擴散器系統(tǒng).
模擬結果
² 擴散器系統(tǒng)產(chǎn)生的光圖樣強度分布
傳輸器提取
² 雙擊光路徑圖中的Stored Transmission打開編輯對話框
傳輸器(transmission)提取
² 點擊Show按鈕顯示光路中的transmission.
擴散器傳輸
² 點擊Cancel按鈕
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 點擊窗口上部以激活窗口
² 點擊設計菜單中Structure Design
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 該結構設計對話框計算采用薄元件近似的傳輸相位得到的高度分布
² 近似對于大于5個波長的有效。對于越小的越不精確。
² 選擇Target File Export以產(chǎn)生結構數(shù)據(jù)
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 對話框可以計算微小結構透明板和鏡面.
² 選擇Height Profile of Transparent Plate.
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 設置正確的襯底和覆蓋材料
² 點擊Set按鈕
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 對話框顯示所有打開的材料文件的菜單
² 如果沒有想要的材料文件打開，點擊Load from Catalog 按鈕從catalog中得到材料.
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 選擇材料目錄Miscellaneous
² 選擇材料PMMA
² 點擊Load按鈕.
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 輸入設計波長
² 如果衍射元件包含不連續(xù)高度層的高度分布，開啟Enfore Quantization，
² 輸入層數(shù)4
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 結構設計對話框顯示需要調節(jié)的高度分布的深度使產(chǎn)生2pi相位差（一個波長）
² 另外，可以查看考慮到特定層數(shù)的高度分布圖調節(jié)深度
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 下面部分可以定義結構的數(shù)據(jù)格式
² VirtualLab產(chǎn)生兩種不同類型的文件：
—參數(shù)匯總文件包括大部分輸入?yún)?shù)的概括，如蝕刻深度，設計波長，元件名稱等等。數(shù)據(jù)可以存儲為.xml, .html或者.txt文件。
—表面數(shù)據(jù)文件包括高度數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)可以存儲為位圖（bitmap）,GDSII或者ASCII文件。
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 選擇你想要創(chuàng)建的參數(shù)匯總文件
² .xml文件是強制的和需要再次輸入到Virtuallab中
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 有效的文件類型依賴于制造技術
² 對于灰度印刷反選Use Layers. 高度分布數(shù)據(jù)可以存儲在位圖或Text格式（和ASCII格式）
² 對于二進制掩模技術選中Use Layers。不同層的數(shù)據(jù)可以存儲在bitmap和GDSII文件中。
² 選擇Bitmap和GDSII Data。
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 點擊Ok按鈕
結構數(shù)據(jù)的產(chǎn)生
² 出現(xiàn)一個保存對話框
² 選擇你要保存的文件夾輸入有效文件名
² 所有的數(shù)據(jù)文件可以有相同的名字而不同的擴展名
² 文件包含的蝕刻掩模(etching mask)的數(shù)據(jù)將在文件名中有附加的掩模（層layer）數(shù).Mask 1表示最深的蝕刻步.
輸出數(shù)據(jù)結果
數(shù)據(jù)輸出結果
² 打開Windows Explorer到VL_Samples文件夾
² 雙擊DO.8_Generation_of_DOE_Fabrication_Data_02.xml file.
² Internet Explorer將顯示文件
數(shù)據(jù)輸出結果
² 該XML文件包含了所有參數(shù)的匯總并連接所有產(chǎn)生的表面數(shù)據(jù)文件
結論
² VirtualLab包含一個從傳輸器（transmission）中計算高度分布的結構設計
² 高度分布可以被輸出。VirtualLab包含結構數(shù)據(jù)的不同文件格式（GDSII，ASCII，Bitmap格式）。
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